(設計技術統括部)MASKエンジニア◇国内半導体工場◎年間休日120日以上◎

仕事内容と労働条件

仕事内容

Fill:チップ上でより均一なパターン密度を作成するために使用されるダミー形状の仕様の作成とコーディング、及びFillセル設計を担当します。

Retargeting:下流のマスク作成に使用される最終的なウェーハ寸法に合わせて設計形状を変更するコードを作成する責任を負います。

Kerf: CD(Critical Dimension 測定、アライメント、オーバーレイ、その他の計測要件などのプロセス制御ニーズのために工場で使用される KERF (またはフレーム/スクライブ) 内のマクロを作成する責任を負います。 KERF エンジニアは、配置制約の対象となる領域内にこれらの個別マクロを配置するための自動化のためのコード作成も行います。

Mask Release:マスク作成に関するスケジュールを調整し、後処理されたデータをマスク製造用のマスクメーカーに転送する責任を負います。 マスクセット全体の購買管理もします。

OJTでの研修教育を想定

半導体素子、集積回路等の電子部品の研究、開発、設計、製造及び販売を行う半導体製造メーカーです。 以下のソリューションを最大限活用し、最先端のロジック半導体の量産の実現に向け、開発を行っております。

半導体には様々な種類がありますが当社はロジックと呼ばれる半導体、その中でも最先端の2nm世代という超微細なロジック半導体の開発・製造・販売を目指しています。

産業のコメと呼ばれる半導体は、現在では国力の根幹にかかわる戦略物資と世界中で認識されるほど重要になっています。その中で最先端ロジック半導体を日本国内で作り、確保することが日本の、そして世界の産業発展のために極めて重要だという認識のもと、半導体専門家有志が集って設立したのが当社です。

日本ではロジック半導体の開発・製造が40nm世代で止まっています。当社はこれを何世代も飛び越え、まだだれも達成していない2nm世代から始めるという非常にチャレンジングな目標を掲げています。

デジタル化が急速に進展し、生成AIをはじめとする本格的なAI時代が到来している現在、日本で失われてしまった最先端ロジック半導体技術を取り戻すことは、新しい技術やアプリケーションを生み出していく原動力になると考えています。私たちの活動が日本の技術立国としての復活につながり、そして日本だけでなく世界の産業発展にも貢献できることを目指しています。

その実現のために、私たちの製造拠点の地として北海道・千歳市を選定させていただきました。豊かな自然に恵まれたこの地で、自然と調和し、環境負荷低減に徹底的にこだわった活動を行います。

日本から世界に向けて、メイドインジャパンの最先端半導体を開発、製造、提供していくことが私たちの使命です。半導体を通して人々を幸せに、豊かにし、人生を充実したものにする。そのために、私たちは挑戦し続けます。

<最先端ロジック半導体の生産を可能にする当社のコア技術>

設計支援と前工程・後工程を一貫して行う
当社独自の新しいビジネスモデル「RUMS」
RUMS....Rapid and Unified Manufacturing Service
RUMSにより、顧客の要望に沿った2nm GAAプロセスを採用した最先端の専用チップやチップレットを、世界最速のサイクルタイムで顧客のもとに届けることを目標としています。

応募資格

【専門性】 Re-targeting, KERF(Frame Generation), Fillに関する深い知識

【経験】
・ 半導体プロセス/プロセスの前提条件/プロセスデザインルール/物理レイアウトの基本的な理解
・アドバンスドノードの物理レイアウトを見て理解する能力
・Linux オペレーティング システムや複数言語でのプログラミング (例: Python、bash、groovy など) を含む EDA 環境の理解
・設計レイアウト操作スクリプトの開発経験 (理想的には IC Validator ランセットまたは Calibre SVRF)
・Dummy Fill、ブール演算、カラー処理、デザインのリターゲットなど、物理レイアウトのデザイン後のデータ処理ステップについての基本的な理解
・Cadence Virtuoso、Synopsys ICVWB または同様のツールなどの VLSI EDA ツールの使用経験。
・ソフトウェア エンジニアリングの自動化およびスクリプト作成の経験 (例: Linux プラットフォームでの Python および/またはシェル スクリプト)
・チーム環境でエラーをデバッグし、問題を解決する能力
・先端半導体技術(14nm以下)の知識
・マスクデータ準備、インライン計測、テストチップ、光近接効果に関する知識を有したマスクテープアウトオペレーションおよびロジスティックスでの勤務を含む半導体業界での経験
・マスクデータの準備、レチクルの構築と製造、レチクルフレームの構築経験
・デザイン ルール チェック (DRC) を含む、Cadence や Synopsys などの業界標準のレイアウト チェックおよび操作ツールを使用した経験
・Cadence SKILLやPcell作成の知識など、半導体設計レイアウトおよび電子設計自動化の経験
・Cadence MaskCompose または同様のソフトウェア パッケージに関する知識
・Job Deckデータ閲覧プラットフォームMEBESの利用経験

【使用ツール】: ICV, Calibre, Virtuoso, Mask Compose, ICVWB, Design Review, Hot Scope等

【語学力】: TOEIC 600 以上、もしくは同等程度
日本語 JLPT:N3取得済み、もしくは同等程度
【歓迎】
【必要資格・ライセンス】
大卒以上の実務・研究等の経験者(3年以上)または大学院(博士課程)修了以上 ※修了見込含む

就業場所

東京都 千代田区

※勤務時間について
フレックスタイム制(フルフレックス)
※1日の標準労働時間 7時間30分
※標準労働時間帯 9:00~17:30(休憩60分)東京
※標準労働時間帯 8:30~17:00(休憩60分)千歳

※固定残業30時間

就業時間・休憩

09:00〜17:30

時間外労働

30時間以下

休日・休暇

土日祝休み
年間休日128日
年末年始休暇・慶弔休暇・産休・育休・介護休暇・有給休暇
・創立記念日(8/10)
・年次有給休暇(20日:入社初年度は入社した月に応じる日数の年次有給休暇を付与する)

賃金

【試用期間】 3ヶ月(※労働条件は本採用と同じです)
・スキル・ご経験によって応相談
・成果給別途支給(成果に応じる)
・固定残業30時間

待遇・福利厚生

社会保険完備・交通費支給
加入保険
・健康保険
・厚生年金
・雇用保険
・労災保険
・通勤手当
・残業手当

受動喫煙対策

禁煙

選考・応募書類

応募 → Periodとの面談 → 企業の選考（書類選考 ↓ 1次面接(オンライン面接) ↓ 最終面接 ※ポジションによっては、面接回数が2回とは限りません。 ↓ 内定）

募集者

社名は面談時にお伝えします

取扱い

株式会社Period（有料職業紹介事業 13-ユ-315555）

掲載日

2026年10月21日

記載の労働条件は掲載時点のものです。詳しくは面談・面接の際にご確認ください。

選考の流れ

1. 応募（このページのフォーム）
2. Periodとの面談（オンライン・日本語または英語）
3. 企業との面接
4. 内定・入社の手続き

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